镀膜材料

　镀膜材料

对于蒸发镀膜： 　　

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 　　厚度均匀性主要取决于： 　　

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度 　　

2、基片表面温度 　

　3.、蒸发功率，速率 　　

4.、真空度 　　5、镀膜时间，厚度大小。 　　

组分均匀性： 　　蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性： 　　1。晶格匹配度 　　2。 基片温度 　　3。蒸发速率