AML 公司(Applied Multilayers LLC) 是美国专业设计,研发和制造真空镀膜设备的主要厂家之一。AML 公司开发出了领先的高性能光学薄膜沉积技术——闭磁场反应磁控溅射技术Closed Field Magnetron (CFM) reactive sputtering。 该技术克服了现有磁控溅射技术的膜层应力大,沉积速率低等缺点。高离子束密度和低内应力,可在高沉积速率条件下,制备性能极佳的精密光学薄膜。在未来5-10年,该技术在光学薄膜(SiO2、TiO2、ZrO2、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、ZnO2、Al2O3、Si3N4、GexC(1-x) & ITO)制备技术中很可能占有主导地位,具有广阔的应用前景。
Closed Field Magnetron (CFM)技术1991年由英国学者Teer首先提出,其基本原理为(见下图):由极性相反的多组磁铁构成相邻的磁控管,这种构造使磁力线可以从一个磁控管延伸到另外一个磁控管,形成闭合的磁阱。这样可以有效阻止电子逃逸,形成增强等离子体,从而提供溅射效率和离化率。该技术首先应用于超硬涂层的制备,主要目的是在磁控溅射离子镀中增加离子束密度。该技术主要利用非平衡磁控技术,将基片包裹在闭合磁力线所构成的磁场区域内,将磁控溅射的优点(源为大面积源,成膜速率高,有利于薄膜厚度均匀性)和离子镀的过程的优点(能改变膜基界面之间的结合力,提供膜基附着力,膜层组织致密等)结合在一起,形成全新的镀膜技术。
AML 公司D.R.Gibson 博士发展了该技术,把该技术应用在光学,光伏等领域。AML 闭磁场反应磁控溅射镀膜机:专门用于沉积单层和多层精密光学薄膜。相对于传统的直流磁控溅射技术,闭磁场反应磁控溅射具有的优势:
1)不在需要用于的激活的单独离子源或等离子体源;
2)也不需要将真空室通过真空泵或障板分离成沉积区和反应区;
3)基底周围能充分氧化,不在需要后期退火处理,减少对氧气分压的依赖;
4)该技术可以在室温下沉积,
闭磁场非平衡磁控溅射技术,创建了可延伸电子平均自由程的磁场结构,产生高离子束密度(>1ma.cm-2),典型的离子能量在20-30 eV。 高离子束密度结合低离子能量的环境,优化了光学薄膜的生产环境。使生长的薄膜非常致密,光谱性能稳定,表面光学并具有极好的光学品质。
闭磁场反应磁控溅射技术具有很多应用领域:
1)multilayer precision optics/多层精密光学
2)AR coatings and mirrors for spectacle lenses/ 透镜,眼镜片 AR 涂层
3)Lighting filters 、UV/IR blocker filter/ 滤光片
4)Durable AR for infra-red optics/红外光学
5)Thin film photovoltaics/ 薄膜光伏
6)Displays &electrochromics/ 显示 & 电致变色显示
7)Hard coating / 硬质涂层等