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厂家加工 CDA-G系列光学蒸发镀膜机,真空干燥机,正达真空

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品牌: 正达真空设备
型号: 齐全
单价: 面议
起订: 1 套
供货总量: 100 套
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
所在地: 北京
有效期至: 长期有效
最后更新: 2012-02-15 19:06
浏览次数: 907
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公司基本资料信息






 
 
产品详细说明

 



CDA-G系列光学蒸发镀膜机

 

特征:

 

光学蒸发镀膜设备,装备有CDA-O系列电子枪,蒸发稳定性好,霍尔离子源的镀前离子清洗使膜厚牢固,镀制各种颜色的增透膜以及红、黄、绿等颜色的反光膜,幻彩膜,AB彩,彩色膜、增透膜、反光膜、金属膜、导电膜等各种类型光学膜层。

 

    在提供设备同时,我们还可向用户提供镀膜工艺,使用户顺利投入生产。

 

 

 

部份机器技术参数如下:

 

 

 

型号

 

CDA-0808G

 

CDA-1010G

 

CDA-1212G

 

CDA-1414G

 

CDA-1515G

 

CDA-1616G

真空室尺寸(mm)

 

Φ800×800

 

Φ1000×1000

 

Φ1250×1250

 

Φ1400×1400

 

Φ1500×1500

 

Φ1600×1600

蒸发方式

电阻及电子束蒸发方式

夹具方式

球面形或盘形

离子源轰击源

任选

膜厚测控

光控或石英晶控

深冷系统

选配

 

    可根据镀膜的种类及工作量的大小选择不同型号的机型,也可根据镀膜过程的实际要求由我方工程技术人员协助设计特殊型号的真空镀膜设备。

 

CDA450 — 2200 P系列中频磁控镀膜机 

CDA450 — 2200P系列中频磁控镀膜机。采用频率为数十千赫兹的中频电源,配备经过严格磁路设计的孪生靶(对靶),可以避免 “打火”、“阳极消失”、“靶中毒”等现象,提高了离化率、溅射速率,显著提高沉积速度,适合做化合物薄膜(如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等)的沉积。中频磁控离子镀膜机在近几年得到了迅猛的发展,在钟表、眼镜、五金等装饰度领域得到广泛的应用,可以进行离子溅射镀铝、铜、不锈钢、贵金属等,可以精确的控制膜厚,是镀各种塑胶、陶瓷、玻璃、手机配件,电器外壳等材料的首选机器,一机多用是该机型的价值所在。 

 

部份机器技术参数如下:

       

型号规格

CDA450————CDA2200P

真空室直径

Ф450mm————2200mm

真空室高度

500mm————2400mm

真空泵组

扩散泵,罗茨泵,旋片

真空测量

多路测量复合真空计 范围 105---10-5 Pa

控制方式

触摸手动或全自动

配气系统

高灵敏度MFC,多路独立控制,气管室体内部特殊

设计布置

加热系统

PID智能控温,温度均匀

工件系统

6轴—16轴变频无级调速行星式公自转

极限真空

1×10-3 Pa

冷却系统

压力流量同步测量控制

功率消耗

20KW————120KW

 

可根据镀膜的种类及工作量的大小选择不同型号的机型,也可根据镀膜过程的实际要求由我方工程技术人员协助设计特殊型号的真空镀膜设备。 



















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