SiO2二氧化硅
二氧化硅光学镀膜材料也是用于光学镜头等光学元件生产的必备材料，在要求膜层更加牢固的情况下使用。由于它更有应力小，成膜容易等特点而被广泛使用在滤光片的生产中。尤其近年来随着光通讯领域的飞速发展，要求使用几百层薄膜的滤光片（密集波分复用器件），这时没有任何其它材料可以取代二氧化硅镀制。另外还因为它是非常好的电绝缘材料而在大规模和超大规模集成电路中大量使用。
由于它具有较高的硬度，在表面保护上也广泛应用。
产品具有非常高而稳定的镀膜薄膜成功率。是日本，德国的光学企业竞相指定使用的高尖端材料产品。主要被用于包括数码照相机，投影机，复印机以及各种显微镜，高级望远镜的镜头，棱镜，还有各种光学测试仪器，光通信器材的滤光片等处。
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