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基片最大尺寸：356mm × 406mm
溅射室极限真空：<1×10-6Torr within 8hrs
排气性能： <9×10-5Torr within 30min
基片加热：最高温度400℃，均匀性±5%以内
溅射阴极：平面阴极3条 500mm(H)×125mm(L)×9mm(T)
旋转阴极2对 500mm(H)×133mm(ID)
溅射电源：直流电源（10kW），中频电源（10kW）
磁控溅射中试线用途
金属膜代加工，工艺授权（各种颜色可调金属/非金属膜；衣服，灯，空调等颜色可调小装饰片，铝膜，铜膜等）
硬质膜工艺授权（氧化锆高耐磨性膜，碳膜，DLC高硬膜等）
复合膜工艺授权（氮氧化钛等）
氧化物介质膜（氧化钛，氧化锆等）
Low-e工艺授权
导电膜工艺授权（ITO,AZO）
减反膜，消影膜，蓝膜，电致变色，光致变色等工艺授权。
旋转靶/平面靶靶材测试
我所拥有强大的研发团队，14名研究员中硕士以上学历者十一人，博士以上学历者两人，均有丰富的工厂&研究所工作经验。
现承接各种工艺需求，代加工。
磁控溅射设备有需要者咨询金老师，电话：13335522658。
地址：安徽省蚌埠市东海大道761号。
