高感光度标准G线正型光刻胶
AZ1500系列G线光刻胶
为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶
特征：
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于*半导体行业
AZ1500系列G线光刻胶参考工艺条件：
前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)
曝光 ：G线步进式曝光机/接触式曝光机
显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 ：去离子水30秒
后烘 ：120℃ 120秒 (DHP)
剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
产品型号：AZ1500
Viscosity:4.4mPa 20mPa 38mPa 90mPa
AZ1500系列G线光刻胶 旋涂曲线：
AZ1500系列i线光刻胶 图案轮廓：
