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激光脉冲镀膜(PLD)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A/pulse）。
技术参数：
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型号 |
Pioneer240 |
Pioneer180 |
Pioneer120 |
Pioneer80 |
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最大wafer直径 |
8” |
6” |
2” |
1” |
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最大靶材数量 |
6个1” 或4个2” |
6个1” 或4个2” |
6个1” 或3个2” |
4个1” |
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压力(Torr) |
<10-8 |
<10-8 |
<10-8 |
<10-8 |
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真空室直径 |
24” |
18” |
12” |
8” |
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基片加热器 |
8”，旋转 |
6”，旋转 |
3”， 旋转 |
2”，旋转 |
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最高样品温度 |
850 ° C |
850 ° C |
950 ° C |
950 ° C |
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Turbo泵抽速 |
800 |
260 |
260 |
70 |
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计算机控制 |
包括 |
包括 |
包括 |
包括 |
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基片旋转 |
包括 |
包括 |
- |
- |
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基片预真空室 |
包括 |
选件 |
选件 |
- |
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扫描激光束系统 |
包括 |
选件 |
- |
- |
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靶预真空室 |
包括 |
- |
- |
- |
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IBAD离子束辅助沉积 |
选件 |
选件 |
选件 |
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CCS连续组成扩展 |
选件 |
选件 |
- |
- |
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高压RHEED |
选件 |
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520 liters/sec泵 |
a/n |
选件 |
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主要特点：
*PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸发，生产出与靶子同样化学组成的膜。
*PLD应用广泛：很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
*PLD节省成本：一束激光能够供多个真空系统使用。
*PLD高效率：在10至15分钟，可生长高质量的样品。
*PLD可升级：当需要大批量生产复合氧化物膜时，Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
