激光脉冲镀膜(PLD)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A/pulse)。
技术参数:
型号 |
Pioneer240 |
Pioneer180 |
Pioneer120 |
Pioneer80 |
最大wafer直径 |
8” |
6” |
2” |
1” |
最大靶材数量 |
6个1” 或4个2” |
6个1” 或4个2” |
6个1” 或3个2” |
4个1” |
压力(Torr) |
<10-8 |
<10-8 |
<10-8 |
<10-8 |
真空室直径 |
24” |
18” |
12” |
8” |
基片加热器 |
8”,旋转 |
6”,旋转 |
3”, 旋转 |
2”,旋转 |
最高样品温度 |
850 ° C |
850 ° C |
950 ° C |
950 ° C |
Turbo泵抽速 |
800 |
260 |
260 |
70 |
计算机控制 |
包括 |
包括 |
包括 |
包括 |
基片旋转 |
包括 |
包括 |
- |
- |
基片预真空室 |
包括 |
选件 |
选件 |
- |
扫描激光束系统 |
包括 |
选件 |
- |
- |
靶预真空室 |
包括 |
- |
- |
- |
IBAD离子束辅助沉积 |
选件 |
选件 |
选件 |
- |
CCS连续组成扩展 |
选件 |
选件 |
- |
- |
高压RHEED |
选件 |
- |
- |
- |
520 liters/sec泵 |
a/n |
选件 |
- |
- |
主要特点:
*PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
*PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
*PLD节省成本:一束激光能够供多个真空系统使用。
*PLD高效率:在10至15分钟,可生长高质量的样品。
*PLD可升级:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。